物理气相沉积三个基本要素是什么
2024-11-28
来源：乐模财经
1、镀料的气化。即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。
2、镀料原子、分子或离子的迁移。由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。
3、镀料原子、分子或离子在基体上沉积。物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
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